半導体業界の歴史的転換点と製造業の未来戦略
世界中でAI、クラウド、EV、自動運転といった新産業が急拡大し、半導体市場はまさに歴史的な転換点にあります。TSMC、Intel、Samsungといった世界のトップ企業は、3nmや2nmといった最先端プロセス技術の開発競争を激化させ、日米欧ではCHIPS法による巨額の補助金が投入されています。日本でもラピダス、キオクシア、ルネサスなどが次世代技術開発に注力しており、世界規模での技術覇権争いが繰り広げられています。
このような激しい変化の中で、日本の製造業がこの波をチャンスに変え、持続的な成長を遂げるためには、最新の動向を正確に把握し、戦略的な意思決定を行うことが不可欠です。
35年以上の取材実績を持つ専門家が語る「今、知るべき情報」
日本経営開発協会／関西経営管理協会は、このような時代のニーズに応えるべく、産業タイムズ社 会長である泉谷渉氏を講師に迎えた「泉谷 渉の『先端技術情報研究会』」を2026年2月12日（木）に開催します。
泉谷氏は、半導体・先端産業の最前線を35年以上にわたり取材し、TSMC、Samsung、Intelなど世界のトップ企業の現場を追い続けてきた専門記者です。その独自取材で得た一次情報に基づき、「製造業はこれから何に備え、どこに投資すべきか」を企業経営の視点から明らかにします。
この研究会に参加することで、以下のような具体的な悩みや課題の解決に繋がるでしょう。
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最新トレンドの把握: 先端プロセス技術、生成AI、車載半導体など、多岐にわたる最新トレンドを体系的に理解できます。
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競争力強化: 世界のトップ企業の戦略やサプライチェーン再編の動きを知ることで、自社の競争優位性を確立するためのヒントが得られます。
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生産性向上とコスト削減: 戦略的な技術投資の方向性を見極めることで、無駄な投資を避け、効率的な研究開発や設備導入に繋がり、結果的に生産性向上や長期的なコスト削減に貢献する可能性があります。
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新たな事業機会の創出: メタバース、量子技術、先端センシングといった新市場の可能性を探り、中堅・中小製造業が今から取り組むべき技術・領域を見出すことができます。
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意思決定の質の向上: 独自取材に基づく一次情報は、市場予測や業界分析の精度を高め、経営判断の質を飛躍的に向上させるでしょう。
セミナーで得られる多角的分析のポイント
本研究会では、以下のようなテーマについて詳細な解説が行われます。
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先端プロセス競争（3nm／2nm／GAA）の行方と日米欧の投資戦略
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生成AIブームが牽引する半導体市場の実態（GPU・HBM・先端パッケージ）
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車載半導体の構造転換 ― EV・自動運転・パワー半導体の急伸
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TSMC、Intel、Samsungの覇権争いが日本企業に与える影響
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世界で広がる半導体の巨額投資とサプライチェーン再編
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メタバース・量子・先端センシングが創る新市場
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中堅・中小製造業が“今から取り組むべき”技術・領域は何か
これらの情報は、貴社が市場の変化に柔軟に対応し、新たな価値を創造するための羅針盤となるはずです。
スタートアップが学べることと導入後のメリット・デメリット
スタートアップ企業にとっては、この研究会は未来の市場を予測し、ニッチな領域での競争優位性を確立するための貴重な機会となるでしょう。巨大な半導体市場の中で、どのような技術が求められ、どのようなサプライチェーンが形成されていくのかを早期に知ることで、戦略的なパートナーシップの構築や、独自の技術開発の方向性を定める上で大きなアドバンテージとなります。
導入後のメリット
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最新トレンドに基づいた迅速な意思決定: 業界の未来を見据えた経営戦略を立案しやすくなります。
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競争力の強化: 他社に先駆けて新しい技術や市場の波に乗ることで、市場における優位性を確立できます。
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新たなビジネスチャンスの発見: 未開拓の市場や技術領域への参入機会を見出すことができます。
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経営リスクの低減: 業界の変化に対応できないことによるビジネス機会の損失や、誤った投資判断のリスクを低減できます。
想定されるデメリット
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情報過多による混乱: 多岐にわたる情報の中から、自社にとって本当に必要なものを見極めるには、参加者自身の理解力と分析力も求められるでしょう。
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即効性の欠如: セミナーで得た知識を具体的な事業戦略に落とし込み、成果を出すまでには時間と労力が必要です。参加後も継続的な学習と実践が不可欠となります。
成功事例としては、最新の技術トレンドをいち早く捉え、ニッチな市場で高付加価値な製品開発に成功した企業が挙げられます。一方で、トレンドの変化を見誤り、過剰な設備投資や技術開発を行った結果、市場の変化に対応できずに苦戦した事例も存在します。この研究会で得られる情報は、そのような過去の成功・失敗事例から学び、より賢明な判断を下すための土台となるでしょう。
開催概要と参加方法
この貴重な機会をぜひご活用ください。
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日程: 2026年2月12日（木）12：30～14：30
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会場: 銀座クレストン 32F「すみれ」（東京都中央区明石町8番・聖路加ガーデン内）
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アクセス：東京メトロ「築地駅」徒歩7分／「新富町駅」徒歩8分
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オンライン受講も可能です。
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参加対象: 中小企業経営者・経営幹部
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参加形式: 会場へのリアル参加とオンライン参加のハイブリッド開催
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主催: 日本経営開発協会・関西経営管理協会
詳細確認およびお申し込みは、以下の公式サイトから可能です。
AI特需に沸く半導体業界の波は、日本の製造業にとって大きなチャンスであり、同時に挑戦でもあります。この「先端技術情報研究会」は、その波を乗りこなし、未来を切り拓くための羅針盤となるはずです。ぜひご参加いただき、貴社の未来戦略を共に考えてみませんか。
